以下方法可用来制备砷化镓薄膜的有（ ）。
A: 液相外延技术
B: 金属有机化学气相沉积技术
C: 分子束外延技术
D: 以上都是
A: 液相外延技术
B: 金属有机化学气相沉积技术
C: 分子束外延技术
D: 以上都是
A,B,C,D
举一反三
内容
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以下属于多晶硅薄膜直接制备法的有（ ）。 A: 液相外延（LPE）法 B: 化学气相沉积（CVD）法 C: 等离子增强化学气相沉积（PECVD）法 D: 低压化学气相沉积（LPCVD）
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在实际利用液相外延技术生长砷化镓薄膜的过程中，衬底材料与外延材料可能不一致，由于二者的晶格常数不同，会存在（ ）失配。
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金属有机化学气相沉积______ 是以______ 和烷类气体为原料进行化学气相沉积生长单晶薄膜的一种技术。
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常见的物理气相沉积技术有。? 离子镀膜|分子束外延技术|真空蒸镀|溅射镀膜
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化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜的方法有（）。 A: 热丝化学气相沉积制备多晶硅 B: 低压化学气相沉积制备多晶硅 C: 非晶硅晶化制备多晶硅薄膜 D: 等离子增强化学气相沉积