FET制造工艺简单、寿命长、功耗低，在集成电路中应用广泛。
举一反三
- FET制造工艺简单、寿命长、功耗低，在集成电路中应用广泛。 A: 正确 B: 错误
- 在数字集成电路中,()的特点是结构简单、制造方便、集成度高、功耗低,但速度相对较慢。 A: 双极型集成电路 B: TTL集成电路 C: CMOS集成电路 D: ECL电路
- CMOS集成电路比TTL集成电路具有( )特点,是目前应用广泛的集成电路之一。 A: 功耗高 B: 电压控制、功耗低 C: 集成度低
- 在当今的集成电路制造工艺中,______ 工艺制造的IC在功耗方面具有最大的优势。
- 在数字集成电路中，（ ）的特点是结构简单、制造方便、集成度高、功耗低，但速度相对较慢。 A: 双极型集成电路 B: 单极型集成电路 C: TTL电路 D: ECL电路