中国大学MOOC: 化学机械抛光技术中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越低，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。
错
举一反三
内容
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CMP工艺中抛光压力越大，抛光速率越快，抛光效果就越好。
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CMP工艺中抛光压力越大，抛光速率越快，抛光效果就越好。 A: 正确 B: 错误
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抛光的三种方法为机械抛光、电解抛光、电化学抛光。
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根据抛光方式的不同，抛光工具可分为（ ）。 A: 电动抛光 B: 气动抛光 C: 手工抛光 D: 机械抛光
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中国大学MOOC: 化学机械抛光CMP工艺是最先进最广泛应用的抛光技术，抛光技术非常成熟，不会产生任何缺陷。