关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-07-02 化学机械抛光技术中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越低，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。 A: 正确 B: 错误 化学机械抛光技术中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越低，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。A: 正确B: 错误 答案： 查看 举一反三 中国大学MOOC: 化学机械抛光技术中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越低，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。 化学机械抛光设备中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越高，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。 化学机械抛光设备中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越高，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。 A: 正确 B: 错误 抛光垫越光滑越好,抛光造成的划痕越少。 CMP工艺中抛光压力越大，抛光速率越快，抛光效果就越好。 A: 正确 B: 错误
