• 2022-06-30
    对于由P型半导体构成的理想的MIS结构,当半导体表面少子浓度是体内多子浓度的2倍时,表明此时表面为( )状态。
    A: 多子积累
    B: 平带
    C: 弱反型
    D: 强反型
  • D

    内容

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      对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态? A: 少子反型 B: 多子积累 C: 多子耗尽 D: 本征状态

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      对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态? A: 少子反型 B: 多子积累 C: 多子耗尽 D: 本征状态

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      对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态? A: 少子反型 B: 多子积累 C: 多子耗尽 D: 本征状态

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      对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态? A: 少子反型 B: 多子积累 C: 多子耗尽 D: 本征状态

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      若P型半导体表面电子浓度高于其体内平衡多子浓度,则半导体表面处于 A: 积累 B: 耗尽 C: 反型 D: 强反型