• 2021-07-18
    对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面多子浓度比体内多子浓度高时,处于哪种状态?? 少子反型|多子耗尽|少子积累|多子积累
  • 多子积累

    内容

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      对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态? A: 少子反型 B: 多子积累 C: 多子耗尽 D: 本征状态

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      对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态? A: 少子反型 B: 多子积累 C: 多子耗尽 D: 本征状态

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      对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态? A: 少子反型 B: 多子积累 C: 多子耗尽 D: 本征状态

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      当在理想MIS结构上外加电压时,可能发生的状态有( ) A: 多子积累 B: 多子耗尽 C: 少子反型 D: 少子积累 E: 少子耗尽 F: 多子反型

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      ‏当在理想MIS结构上外加电压时,可能发生的状态有( )‍ A: 多子积累 B: 多子耗尽 C: 少子反型 D: 少子积累 E: 少子耗尽 F: 多子反型