关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-07-01 光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（） 光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（） 答案： 查看 举一反三 正性光刻工艺中，得到的图形与掩膜版上相反 在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。 光学光刻中，把与掩膜版上图形的相同图形复制到硅片表面的光刻是正性光刻。 IC制造工艺包括()等工艺。 A: 外延生长 B: 掩膜制造 C: 氧化 D: 光刻 IC制造工艺包括(<br/>)等工艺。 A: 外延生长 B: 掩膜制造 C: 氧化 D: 光刻
