关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-05-30 光学光刻中，把与掩膜版上图形的相同图形复制到硅片表面的光刻是正性光刻。 光学光刻中，把与掩膜版上图形的相同图形复制到硅片表面的光刻是正性光刻。 答案： 查看 举一反三 正性光刻工艺中，得到的图形与掩膜版上相反 在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。 2、光刻要求硅片表面上存在的图案与掩膜版上的图形准确对准，这种特性指标我们称为 。 光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（） 课程中讲到光刻工艺有三个要素,它们分别是() A: 光刻胶 B: 光刻掩膜板 C: 光刻机 D: 硅片
