光学光刻中，把与掩膜版上图形的相同图形复制到硅片表面的光刻是正性光刻。
正确
举一反三
内容
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13、主要用于制作光学掩膜版的光刻技术是： A: A、光学光刻技术 B: B、电子束光刻技术 C: C、离子束光刻技术 D: D、X射线光刻技术
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集成电路制造与集成电路设计相关纽带是光刻掩膜版。
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在集成电路制造过程中，刻蚀通常是在（）之后进行的，刻蚀与光刻一起实现了将掩膜版上的图形转移到薄膜上。 A: 显影 B: 光刻 C: 涂胶 D: 抛光
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光刻技术______ <br/>光刻加工是用照相复印的方法将光刻掩膜上的图像印制在涂有光致抗蚀剂______ 的薄膜或基材表面,然后进行选择性腐蚀,刻蚀出规定的图形。光刻工艺的基本过程包括涂胶、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶。
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数字投影微光刻技术中的动态掩膜同传统平面光刻的掩膜结构类似