随着温度的升高,n型半导体电导率的变化应为
A: 先增大(考虑杂质电离和电离杂质散射),后减小(考虑晶格振动散射),再增大(考虑本征激发);
B: 先增大(考虑杂质电离和晶格振动散射),后减小(考虑晶格振动散射),再增大(考虑本征激发);
C: 先减小(考虑晶格振动散射),后增大(考虑本征激发),再减小(考虑晶格振动散射);
D: 先增大(晶格振动散射),后减小(考虑杂质电离和电离杂质散射),再增大(考虑本征激发);
A: 先增大(考虑杂质电离和电离杂质散射),后减小(考虑晶格振动散射),再增大(考虑本征激发);
B: 先增大(考虑杂质电离和晶格振动散射),后减小(考虑晶格振动散射),再增大(考虑本征激发);
C: 先减小(考虑晶格振动散射),后增大(考虑本征激发),再减小(考虑晶格振动散射);
D: 先增大(晶格振动散射),后减小(考虑杂质电离和电离杂质散射),再增大(考虑本征激发);