下面关于刻蚀效果的描述中错误的是（）。
A: 刻蚀均匀性要好
B: 图形的保真度好
C: 刻蚀选择比低
D: 刻蚀的洁净度高
A: 刻蚀均匀性要好
B: 图形的保真度好
C: 刻蚀选择比低
D: 刻蚀的洁净度高
举一反三
- 晶圆制造过程中,检测刻蚀质量的好坏,一般通过以下几个方面体现出来:( )。 A: 刻蚀均匀性 B: 图形保真度 C: 刻蚀选择比 D: 刻蚀的洁净度
- 114.晶圆制造过程中，检测刻蚀质量的好坏，一般通过以下几个方面体现出来：（）。 A: 刻蚀均匀性 B: 图形保真度 C: 刻蚀选择比 D: 刻蚀的洁净度
- 在刻蚀工艺中,有几个非常重要的参数,其中( )定义为当刻蚀线条时,刻蚀的深度V 与一边的横向增加量 ΔX 的比值V/ΔX,比值越大,说明横向刻蚀速率小,刻蚀图形的保真度好。 A: 刻蚀因子 B: 刻蚀速率 C: 选择比 D: 均匀性
- 刻蚀要求均匀性好，保真度好，选择比高，清洁度高。
- 刻蚀要求均匀性好，保真度好，选择比高，清洁度高。 A: 正确 B: 错误