负载效应是指因刻蚀面积变化而导致的刻蚀均匀性的变化，刻蚀速率随着被刻蚀薄膜暴露的面积的增加而下降。
举一反三
- 中国大学MOOC: 负载效应是指因刻蚀面积变化而导致的刻蚀均匀性的变化，刻蚀速率随着被刻蚀薄膜暴露的面积的增加而下降。
- 刻蚀参数有：（ ）。 A: 刻蚀偏差 B: 刻蚀速率 C: 均匀性 D: 选择比
- 当刻蚀线条时，刻蚀的深度V与一边的横向增加量ΔX的比值称之为（）。 A: 刻蚀速率 B: 刻蚀均匀性 C: 刻蚀选择比 D: 刻蚀因子
- 刻蚀要求在整个晶圆上有一个均匀的刻蚀速率，（）是在晶圆上由测量刻蚀过程前后特定点的厚度，并计算这些点的刻蚀速率而得到的。 A: 选择性 B: 均匀性 C: 轮廓 D: 刻蚀图案
- 刻蚀过程中有一项重要的参数是选择比。刻蚀选择比高表现为对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一层薄膜或材料的刻蚀速率都比被刻蚀薄膜的刻蚀速率小得多。( )