刻蚀过程中有一项重要的参数是选择比。刻蚀选择比高表现为对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一层薄膜或材料的刻蚀速率都比被刻蚀薄膜的刻蚀速率小得多。( )
举一反三
- 刻蚀参数有：（ ）。 A: 刻蚀偏差 B: 刻蚀速率 C: 均匀性 D: 选择比
- 工艺上用于反映横向刻蚀程度的参数是: A: 刻蚀速率 B: 刻蚀因子 C: 均匀性 D: 选择比
- 当刻蚀线条时，刻蚀的深度V与一边的横向增加量ΔX的比值称之为（）。 A: 刻蚀速率 B: 刻蚀均匀性 C: 刻蚀选择比 D: 刻蚀因子
- 负载效应是指因刻蚀面积变化而导致的刻蚀均匀性的变化，刻蚀速率随着被刻蚀薄膜暴露的面积的增加而下降。
- 35.在刻蚀工艺中，有几个非常重要的参数，其中（）定义为当刻蚀线条时，刻蚀的深度V 与一[br][/br]边的横向增加量 ΔX 的比值V/ΔX，比值越大，说明横向刻蚀速率小，刻蚀图形的保真度好。 A: 刻蚀因子 B: 刻蚀速率 C: 选择比 D: 均匀性