关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 化学机械抛光CMP工艺是最先进最广泛应用的抛光技术，抛光技术非常成熟，不会产生任何缺陷。 A: 正确 B: 错误 化学机械抛光CMP工艺是最先进最广泛应用的抛光技术，抛光技术非常成熟，不会产生任何缺陷。A: 正确B: 错误 答案： 查看 举一反三 中国大学MOOC: 化学机械抛光CMP工艺是最先进最广泛应用的抛光技术，抛光技术非常成熟，不会产生任何缺陷。 CMP工艺中抛光压力越大，抛光速率越快，抛光效果就越好。 A: 正确 B: 错误 化学机械抛光技术中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越低，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。 A: 正确 B: 错误 化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高，抛光速率会减小，但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。 A: 正确 B: 错误 化学机械抛光是一种全局性的抛光技术。（ ）
