关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 制备多晶硅薄膜的CVD方法可分为高温工艺和低温工艺两种。高温工艺中，衬底温度超过600℃，以廉价普通玻璃为衬底；低温工艺的衬底温度低于600℃，以昂贵的石英玻璃等作衬底。 制备多晶硅薄膜的CVD方法可分为高温工艺和低温工艺两种。高温工艺中，衬底温度超过600℃，以廉价普通玻璃为衬底；低温工艺的衬底温度低于600℃，以昂贵的石英玻璃等作衬底。 答案： 查看 举一反三 抑制离子注入工艺中沟道效应的方法有（ ）。 A: 倾斜衬底 B: 升高衬底温度 C: 降低离子注入能量 D: 衬底表面沉积非晶薄膜 利用LPCVD法制备多晶硅薄膜时，可以选择普通玻璃作为衬底。 通常，柔性不锈钢衬底非晶硅薄膜太阳能电池的制备采用的是 工艺 典型的上衬底结构CdTe薄膜太阳电池生产所用的主流衬底玻璃是（）。 A: 硅酸盐玻璃 B: 石英玻璃 C: 钠钙玻璃 D: 高硼硅玻璃 利用LPCVD法制备多晶硅薄膜时，可以选择普通玻璃作为衬底。 A: 正确 B: 错误
