LPCVD（低压CVD）
LPCVD（低压CVD）
智慧职教: LPCVD的含义是
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APCVD、LPCVD、PECVD和HDPCVD中文名称分别是？
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在LPCVD中，由于hG>>kS，即质量转移系数远大于表面反应速率常数，所以，LPCVD系统中，淀积过程主要是表面反应速率控制
在LPCVD中，由于hG>>kS，即质量转移系数远大于表面反应速率常数，所以，LPCVD系统中，淀积过程主要是表面反应速率控制
LPCVD和PECVD的不同包括: A: LPCVD 主要采用加热的方式提供化学反应的能量 B: PECVD主要采用等离子体提供能量 C: LPCVD温度比较高,只能用于金属前介质的淀积 D: PECVD温度比较低,适合金属间介质的淀积
LPCVD和PECVD的不同包括: A: LPCVD 主要采用加热的方式提供化学反应的能量 B: PECVD主要采用等离子体提供能量 C: LPCVD温度比较高,只能用于金属前介质的淀积 D: PECVD温度比较低,适合金属间介质的淀积
多晶硅膜的制备最常用的方法是LPCVD法。
多晶硅膜的制备最常用的方法是LPCVD法。
缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是（ ）、（ ）、（）、和（ ）。
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中国大学MOOC: PECVD相对LPCVD方法来说，显著的优点是
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比较APCVD、LPCVD和PECVD三种方法的主要异同?主要优缺点?
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利用LPCVD法制备多晶硅薄膜时，可以选择普通玻璃作为衬底。
利用LPCVD法制备多晶硅薄膜时，可以选择普通玻璃作为衬底。