简述溅射成膜的原理，并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。
在一定真空条件下，通过外加电、磁场的作用将惰性气体电离，用加速的离子轰击固体表面，离子和固体表面原子交换动量，使固体表面的原子离开固体并沉积在基板表面的过程。被轰击的物体是用溅射薄膜的源材料组成的固体称为靶材。栅金属材料有工艺稳定性好的铬Cr、钼Mo、钽Ta等；源漏材料有钼/铝/钼Mo/Al/Mo、钼氮/铝镍/钼氮MoNx/AlNi/MoNx、钼/铝钕/钼Mo/AlNd/Mo等三层材料；像素电极ITO薄膜材料都采用溅射方法成膜。
举一反三
内容
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4、 薄膜片式电阻器的生产主要有以下几方面的技术:基片、成膜、 、端面处理。（ ） A: 镀膜 B: 激光调阻 C: 散热 D: 溅射
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在制镜工业中所用的铝膜大多采用的制膜方法是: 。 A: 蒸镀 B: 溅射镀 C: 离子镀 D: 化学镀
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溅射与蒸镀比较，溅射制备的薄膜质量（如粘附性、保形性等）更好。
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液晶显示器制造过程中，以下工艺中不是TFT制作中采用的薄膜制备工艺的是（ ） A: LB膜工艺 B: 溅射工艺 C: PECVD工艺 D: 激光退火工艺
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根据引起气体放电的机理不同，可形成不同的溅射镀膜方法，主要有（）溅射、（）溅射、反应溅射、磁控溅射等方法。