关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 中国大学MOOC: 制备TiO2等介质薄膜可以采用 溅射方法。 中国大学MOOC: 制备TiO2等介质薄膜可以采用 溅射方法。 答案： 查看 举一反三 溅射制备SiO2薄膜，通常采用 ______ 溅射方法。 中国大学MOOC: 溅射比蒸发制备的薄膜的台阶覆盖比要好。 溅射与蒸镀比较，溅射制备的薄膜质量（如粘附性、保形性等）更好。 采用LPCVD或PECVD方法可以制备下列哪种薄膜： A: 单晶硅 B: 多晶硅 C: 非晶介质 D: 二氧化硅 中国大学MOOC: 集成电路制造工艺中，不能制备二氧化硅薄膜的方法是： 。
