关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 采用LPCVD或PECVD方法可以制备下列哪种薄膜： A: 单晶硅 B: 多晶硅 C: 非晶介质 D: 二氧化硅 采用LPCVD或PECVD方法可以制备下列哪种薄膜：A: 单晶硅B: 多晶硅C: 非晶介质D: 二氧化硅 答案： 查看 举一反三 所谓多晶硅薄膜的间接制备法，就是先制备得到（ ）薄膜，再通过不同的晶化技术，将其晶化为多晶硅薄膜。 A: 非晶硅 B: 单晶硅 C: 微晶硅 D: 多晶硅 硅(Si)易于通过沉积工艺制备出单晶硅、多晶硅 和非晶硅薄膜材料。 硅光电池的材料有（）等。 A: 单晶硅 B: 多晶硅 C: 非晶硅 D: 二氧化硅 硅光电池的材料有（）等。 A: 单晶硅 B: 多晶硅 C: 非晶硅 D: 二氧化硅 硅(Si)易于通过沉积工艺制备出单晶硅、多晶硅 和非晶硅薄膜材料。 A: 正确 B: 错误
