关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 中国大学MOOC: 光刻工艺中的HMDS增黏处理的方法有两种，分别是（）和（）。 中国大学MOOC: 光刻工艺中的HMDS增黏处理的方法有两种，分别是（）和（）。 答案： 查看 举一反三 光刻工艺中的HMDS增黏处理的方法有两种，分别是旋转涂布法和（）。 A: 正性涂布法 B: 负性涂布法 C: 选择涂布法 D: 气相涂底法 在光刻前处理工艺中涂覆HMDS的目的是增强分辨率。 中国大学MOOC: 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和正性光刻，负性光刻中采用的光刻胶是（ ）。 在光刻前处理工艺中涂覆HMDS的目的是增强分辨率。 A: 正确 B: 错误 中国大学MOOC: 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（ ），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（ ），后者是（ ）。
