由于注入的束流尺寸比较小,一般小于晶圆尺寸,因此注入时需要离子注入系统中的:
A: 束流聚焦系统
B: 吸极
C: 磁分析器
D: 束流扫描
A: 束流聚焦系统
B: 吸极
C: 磁分析器
D: 束流扫描
D
举一反三
- 若需要将离子聚焦为小尺寸或者平行束流,需要离子注入系统中的: A: 束流聚焦系统 B: 吸极 C: 磁分析器 D: 中性束流陷阱
- 能够挑选出唯一需要注入的离子,属于离子注入系统中的: A: 离子源 B: 吸极 C: 磁分析器 D: 中性束流陷阱
- 能够将注入的离子偏转方向,然后收集中性原子的是子注入系统中的: A: 离子源 B: 吸极 C: 磁分析器 D: 中性束流陷阱
- 能够并将注入的离子偏转方向,然后收集中性原子的是子注入系统中的 A: 离子源 B: 吸极 C: 中性束流陷阱 D: 磁分析器
- 离子注入系统中,从离子源引出的各种离子中分析出所需要注入的离子,成为单一元素的离子束的部件是 A: 离子源 B: 聚焦系统 C: 中性束流陷阱 D: 磁分析器
内容
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离子注入机根据能量和束流大小可以分为: A: 高能注入机 B: 低能注入机 C: 大束流注入机 D: 中束流注入机
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能够使注入的离子偏转，中性原子被收集的是 A: 磁分析器 B: 中性束流陷阱 C: 加速管 D: 扫描系统
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为了降低注入离子对衬底由于热沉积产生的温升，在高剂量、大束流离子注入时，可以采用（）扫描方式，在低剂量、小束流时一般用（）方式注入。
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能够使注入的离子偏转，中性原子被收集的是 A: 聚焦系统 B: 扫描四通 C: 中性束流陷阱 D: 扫描系统
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离子注入的过程中,在同样的硅片面积下,注入的束流大小与注入时间直接决定剂量的大小,束流越大、注入时间越长,达到的剂量越大。( )