以下哪种工艺不适用于制备薄膜材料:()
A: HPS
B: CVD
C: Hydrothermal
D: Sol-gel
A: HPS
B: CVD
C: Hydrothermal
D: Sol-gel
A
举一反三
- 集成电路制造工艺中，不能制备二氧化硅薄膜的方法是： 。 A: 热氧化 B: CVD C: PVD D: 热扩散
- 名词解释：sol and gel
- 氧化铝纤维的制备方法有多种，常见的有 A: 杜邦法，拉晶法、住友法、sol-gel法 B: CVD法，拉晶法、住友法、sol-gel法 C: PVD法，拉晶法、住友法、sol-gel法 D: 杜邦法，剥离法、住友法、sol-gel法
- 下列哪种制备工艺方法不适用于单晶硅制备是( )。 A: 直拉法 B: 磁拉法 C: 直熔法 D: 区熔法
- PVD与CVD比较，下列那种说法正确： A: PVD薄膜的保形性更好； B: PVD薄膜与衬底的粘附性较差； C: CVD工艺温度更低； D: CVD普适性更好。
内容
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玻璃纤维织物不适用于以下哪种复合材料成型工艺 A: 缠绕成型 B: 模压工艺 C: RTM工艺 D: 手糊成型
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④ 下面哪种CVD的类型有效大量降低了工艺温度 A: 、外延生长法 B: 、等离子CVD C: 、常压CVD D: 、减压CVD
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1. 以下哪种塑料不适用于压缩工艺成形（ ）。 A: 酚醛塑料 B: 氨基塑料 C: 聚乙烯 D: 聚酰亚胺
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解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别，哪种工艺依赖于温度，LPCVD和APCVD各属于哪种类型？
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中国大学MOOC: 下列哪种制品不适合用聚乳酸材料制备：