关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 硅片表面常见的沾污包括 A: 颗粒 B: 有机残余物 C: 金属离子 D: 自然氧化层 硅片表面常见的沾污包括A: 颗粒B: 有机残余物C: 金属离子D: 自然氧化层 答案： 查看 举一反三 硅片表面常见的沾污包括 A: 颗粒 B: 有机残余物 C: 金属离子 D: 自然氧化物 硅片表面常见的沾污（Contamination）主要有：颗粒、 、金属离子、 和静电释放。 A: DHF清洗液主要用于去除硅片表面的 A: 金属离子 B: 颗粒 C: 有机残余物 D: 自然氧化物 SC-2，又称2号清洗液，在晶圆清洗技术中主要是用来去除硅片表面的 。 A: 颗粒 B: 有机沾污 C: 自然氧化层 D: 金属沾污 InTex的目的是去除硅片表面的污染物；在硅片表面腐蚀出绒面；络合硅片表面沾污的金属离子。
