关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 硅片表面常见的沾污（Contamination）主要有：颗粒、 、金属离子、 和静电释放。 A: 硅片表面常见的沾污（Contamination）主要有：颗粒、 、金属离子、 和静电释放。A: 答案： 查看 举一反三 硅片表面常见的沾污包括 A: 颗粒 B: 有机残余物 C: 金属离子 D: 自然氧化物 硅片表面常见的沾污包括 A: 颗粒 B: 有机残余物 C: 金属离子 D: 自然氧化层 InTex的目的是去除硅片表面的污染物；在硅片表面腐蚀出绒面；络合硅片表面沾污的金属离子。 净化室将硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如（）的沾污。 A: 颗粒 B: 金属 C: 有机分子 D: 静电释放（ESD） E: 水 单晶原硅片的表面沾污有哪些（）。 A: 有机物沾污 B: 金属沾污 C: 以上均不是
