中国大学MOOC: （）刻蚀方法是利用具有一定能量的离子轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。
举一反三
- （）刻蚀方法是利用具有一定能量的离子轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。 A: 等离子体刻蚀 B: 化学刻蚀 C: 离子束刻蚀 D: 电子束刻蚀
- 下面（）刻蚀方法是利用具有一定能量的离子轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。 A: 化学刻蚀 B: 电子束刻蚀 C: 等离子体刻蚀 D: 离子束刻蚀
- 离子束刻蚀是利用具有一定能量的（）轰击材 料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。 A: 电子 B: 离子 C: 原子 D: 分子
- 两种刻蚀方法中,属于各向同性刻蚀的是: A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 离子刻蚀 D: 溅射刻蚀
- 中国大学MOOC: 刻蚀的方法有两类：湿法刻蚀和干法刻蚀，其中，（）是利用液体化学试剂以化学形式除去硅片表面材料。而（）是利用等离子体辅助来进行刻蚀的技术，刻蚀反应中不涉及液体。