关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2021-04-14 中国大学MOOC: 通常掩膜氧化采用的工艺方法为： 中国大学MOOC: 通常掩膜氧化采用的工艺方法为： 答案： 查看 举一反三 硅集成电路工艺中，通常采用多晶硅作为掩膜进行选择性扩散。 A: 正确 B: 错误 IC制造工艺包括()等工艺。 A: 外延生长 B: 掩膜制造 C: 氧化 D: 光刻 中国大学MOOC: 热扩散工艺中扩散结深通常采用（）和（）两种方法进行测量。 中国大学MOOC: 在集成电路中，将掩膜版上的图形转移到光刻胶上的图形化工艺是 IC制造工艺包括(<br/>)等工艺。 A: 外延生长 B: 掩膜制造 C: 氧化 D: 光刻
