光电子产生的机理是（ ）
A: 内层电子被X射线激发
B: 外层电子被X射线激发
C: 内层电子被电子激发
D: 外层电子被电子激发
A: 内层电子被X射线激发
B: 外层电子被X射线激发
C: 内层电子被电子激发
D: 外层电子被电子激发
举一反三
- 特征X射线产生的机理是（ ）： A: 高速电子受阻 B: 原子内层电子跃迁 C: 外层电子被打掉 D: 内层电子被打掉
- 特征X射线产生的机理是( ) A: 高速电子受阻 B: 原子内层电子跃迁 C: 外层电子被打掉
- 特征X射线产生的机理是( ) A: 高速电子受阻 B: 原子内层电子跃迁 C: 外层电子被打掉
- 当样品原子的内层电子被入射电子激发或电离时，原子就会处于能量较高的激发状态，此时外层电子将向内层跃迁以填补内层电子的空缺，从而使具有特征能量的X射线释放出来，称为 。它可用作
- 试样受X射线照射后，其中各元素原子的（）被激发逐出原子而引起壳层电子跃迁，并发射出该元素的特征X射线称为二次X射线，或称为X射线荧光。 A: 外层电子 B: 内层电子 C: 原子 D: 高能电子