光刻工艺中使用的对准和曝光设备是是现代光刻系统的最主要的组成系统，光刻工艺中最主要的工艺控制项是条宽控制 和（）。
A: 对位控制
B: 分辨率控制
C: 粘附性控制
D: 灵敏度控制
A: 对位控制
B: 分辨率控制
C: 粘附性控制
D: 灵敏度控制
举一反三
- 光刻工艺中使用的对准和曝光设备是是现代光刻系统的最主要的组成系统，光刻工艺中最主要的工艺控制项是条宽控制和（）。
- 中国大学MOOC: 光刻工艺中使用的对准和曝光设备是是现代光刻系统的最主要的组成系统，光刻工艺中最主要的工艺控制项是条宽控制 和（）。
- 光刻工艺中使用的对准和曝光设备是是现代光刻系统的最主要的组成系统，光刻工艺中最主要的工艺控制项是（）和（）。
- 光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？
- 在光刻工艺中，曝光光源的波长越长，则光刻的分辨率越 ；投影式曝光系统中透镜的数值孔径（NA）越大，分辨率越 ；光刻胶的对比度越大，则光刻的分辨率越 。