接近式光刻相比于接触式光刻其优点是（ ）
A: 增强了曝光的分辨率
B: 减小了曝光所需时间
C: 增加了光掩膜寿命
D: 便于操作
A: 增强了曝光的分辨率
B: 减小了曝光所需时间
C: 增加了光掩膜寿命
D: 便于操作
C
举一反三
- 光刻技术中的曝光方式有()。 A: 接近式曝光 B: 接触式曝光 C: 投影式曝光
- 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪几种？（）。 A: 压印式光刻 B: 投影式光刻 C: 接近式光刻 D: 接触式光刻
- 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪三种？（） A: 接触式光刻 B: 接近式光刻 C: 投影式光刻 D: 压印式光刻
- 光刻技术中最常用的曝光方式有（）。 A: 接触式曝光 B: 接近式曝光 C: 投影式曝光 D: 压印式曝光
- 关于光刻分辨率,下列哪一种说法是错误的() A: 减小波长可以提高分辨率 B: 采用浸入式光刻可以提高分辨率 C: 使用移相掩膜技术制备的光刻版可以提高分辨率 D: 接近式光刻的分辨率可以达到50nm
内容
- 0
曝光方式中,图形尺寸和掩膜尺寸一致的有()。 A: 接近式曝光 B: 接触式曝光 C: 投影式曝光
- 1
以下几种光刻方法中，属于光学曝光的是： 。 A: 接触式 B: 接近式 C: 投影式 D: 扫描式
- 2
以下几种光刻方法中，属于光学曝光的是 A: 接触式 B: 接近式 C: 步进式 D: 扫描式
- 3
简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。
- 4
在光刻工艺中，曝光光源的波长越长，则光刻的分辨率越 ；投影式曝光系统中透镜的数值孔径（NA）越大，分辨率越 ；光刻胶的对比度越大，则光刻的分辨率越 。