光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）
X射线曝光技术
举一反三
内容
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在光刻工艺中，曝光光源的波长越长，则光刻的分辨率越 ；投影式曝光系统中透镜的数值孔径（NA）越大，分辨率越 ；光刻胶的对比度越大，则光刻的分辨率越 。
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电子束曝光的分辨率要远远低于光学光刻的分辨率。
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浸入式光刻技术可以提高光刻的分辨率。
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光刻技术中的曝光方式有()。 A: 接近式曝光 B: 接触式曝光 C: 投影式曝光
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光刻的分辨率是光刻工艺、光刻机等重要的指标，提高光刻系统图形加工分辨率可以采用的方法有( ) A: 采用合适的设备如数值孔径更大的光刻机 B: 利用直径足够大的晶圆片 C: 采用相移掩膜 D: X-ray光刻