根据光刻胶曝光前后的溶解特性分为______ 、______ 两种。
举一反三
- 在曝光后被溶解的光刻胶是()。 A: 正胶 B: 负胶 C: 正胶或负胶
- 显影就是溶解掉正胶工艺的光刻胶，或负胶工艺的光刻胶。该工艺中需要严格控制和。 A: 被曝光 B: 未曝光 C: 显影液温度 D: 显影时间
- 光刻工艺所需要的三要素为: A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 C: 光源、光刻胶和曝光时间 D: 光源、光刻胶和掩模版
- 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
- 光刻工艺所需要的三要素为： A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光源、光刻胶和曝光时间 C: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 D: 光源、掩模版和超净间 E: 光源、光刻胶和掩模版