第一个合成的稀有气体化合物是 A: XeF2 B: XeO3 C: XePtF6 D: KrF2
第一个合成的稀有气体化合物是 A: XeF2 B: XeO3 C: XePtF6 D: KrF2
从电光转换效率评估,下列转换效率高的是() A: CO B: YAG C: CO2 D: KrF
从电光转换效率评估,下列转换效率高的是() A: CO B: YAG C: CO2 D: KrF
现有一台K1为0.48,数值孔径(NA)为0.62,使用i线(波长365nm)曝光的光刻机,那么它的分辨率是______ nm,______ (能/不能)使用它光刻最小线宽为200nm的图形;如果将该光刻机光源改为KrF准分子激光(波长为248nm),那么______ (能/不能)使用它光刻最小线宽为200nm的图形。
现有一台K1为0.48,数值孔径(NA)为0.62,使用i线(波长365nm)曝光的光刻机,那么它的分辨率是______ nm,______ (能/不能)使用它光刻最小线宽为200nm的图形;如果将该光刻机光源改为KrF准分子激光(波长为248nm),那么______ (能/不能)使用它光刻最小线宽为200nm的图形。
下列关于稀有气体化合物的叙述中,错误的是() A: 稀有气体原子在一般条件下不易与其他原子形成化学键,故稀有气体化合物的数目极其有限 B: KrF易挥发,具有强氧化性,可通过放电反应合成 C: 氙的氟化物和氧化物都是强氧化剂,能将许多物质氧化 D: 氟化氙遇水都发生剧烈反应,生成单质氙和HF
下列关于稀有气体化合物的叙述中,错误的是() A: 稀有气体原子在一般条件下不易与其他原子形成化学键,故稀有气体化合物的数目极其有限 B: KrF易挥发,具有强氧化性,可通过放电反应合成 C: 氙的氟化物和氧化物都是强氧化剂,能将许多物质氧化 D: 氟化氙遇水都发生剧烈反应,生成单质氙和HF
<p>下列关于稀有气体化合物的叙述中,错误的是</p> A: 氟化氙遇水都发生剧烈反应,生成单质氙和HF B: KrF2易挥发,具有强氧化性,可通过放电反应合成 C: 氙的氟化物和氧化物都是强氧化剂,能将许多物质氧化 D: 稀有气体原子在一般条件下不易与其他原子形成化学键,故稀有气体化合物的数目极其有限
<p>下列关于稀有气体化合物的叙述中,错误的是</p> A: 氟化氙遇水都发生剧烈反应,生成单质氙和HF B: KrF2易挥发,具有强氧化性,可通过放电反应合成 C: 氙的氟化物和氧化物都是强氧化剂,能将许多物质氧化 D: 稀有气体原子在一般条件下不易与其他原子形成化学键,故稀有气体化合物的数目极其有限
【单选题】NO 2 、NO 2 - 、NO 2 + 键角大小关系正确的是 。 A. NO 2 > NO 2 - >NO 2 + B. NO 2 + >NO 2 >NO 2 - C. NO 2 - > NO 2 >NO 2 + D. NO 2 + > NO 2 - >NO 2
【单选题】NO 2 、NO 2 - 、NO 2 + 键角大小关系正确的是 。 A. NO 2 > NO 2 - >NO 2 + B. NO 2 + >NO 2 >NO 2 - C. NO 2 - > NO 2 >NO 2 + D. NO 2 + > NO 2 - >NO 2
求定积分[img=179x43]17da65388c0b1ca.png[/img]; ( ) A: log(2^(1/2) + 1)/2 + 2^(1/2)/2 B: log(2^(1/2) + 1)/2 - 2^(1/2)/2 - 1/2 C: log(2^(1/2) + 1)/2 + 2^(1/2)/2 - 1/2 D: log(2^(1/2) + 1)/2 + 2^(1/2)/2 + 1/2
求定积分[img=179x43]17da65388c0b1ca.png[/img]; ( ) A: log(2^(1/2) + 1)/2 + 2^(1/2)/2 B: log(2^(1/2) + 1)/2 - 2^(1/2)/2 - 1/2 C: log(2^(1/2) + 1)/2 + 2^(1/2)/2 - 1/2 D: log(2^(1/2) + 1)/2 + 2^(1/2)/2 + 1/2
2 + 2 * (2 * 2 - 2) % 2 / 3
2 + 2 * (2 * 2 - 2) % 2 / 3
函数z=xsiny在点(1,π/4)处的两个偏导数分别为 A: √2/2,√2/2 B: √2/2,-√2/2 C: -√2/2,-√2/2 D: -√2/2,√2/2
函数z=xsiny在点(1,π/4)处的两个偏导数分别为 A: √2/2,√2/2 B: √2/2,-√2/2 C: -√2/2,-√2/2 D: -√2/2,√2/2
2×2×2×2×2
2×2×2×2×2