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  • 2022-10-27 问题

    半导体硅材料制备中产生的硅烷在常温下是一种气体，其分子式为（）。 A: SiH<sub>2</sub> B: SiH C: SiH<sub>3</sub> D: SiH<sub>4</sub>

    半导体硅材料制备中产生的硅烷在常温下是一种气体，其分子式为（）。 A: SiH<sub>2</sub> B: SiH C: SiH<sub>3</sub> D: SiH<sub>4</sub>

  • 2022-06-26 问题

    下列各分子中， 属于平面三角形几何构型的是 A: N(CH3)3 B: N(SiH3)3 C: ClF3 D: XeOF2

    下列各分子中， 属于平面三角形几何构型的是 A: N(CH3)3 B: N(SiH3)3 C: ClF3 D: XeOF2

  • 2022-10-27 问题

    半导体硅材料制备中产生的硅烷在常温下是一种气体，其分子式为（）。 A: SiH B: SiH C: SiH D: SiH

    半导体硅材料制备中产生的硅烷在常温下是一种气体，其分子式为（）。 A: SiH B: SiH C: SiH D: SiH

  • 2022-07-23 问题

    下列化合物存在氢键的是（） A: NH B: SiH C: O D: HS

    下列化合物存在氢键的是（） A: NH B: SiH C: O D: HS

  • 2022-06-30 问题

    在CO2、SiH4、BF3分子中，它们（）。 A: 都是极性分子 B: CO、SiH是非极性分子，BF是极性分子 C: 都是非极性分子 D: CO是非极性分子，SiH、BF是极性分子

    在CO2、SiH4、BF3分子中，它们（）。 A: 都是极性分子 B: CO、SiH是非极性分子，BF是极性分子 C: 都是非极性分子 D: CO是非极性分子，SiH、BF是极性分子

  • 2022-11-01 问题

    下列化合物常温下呈液态的是（）。 A: SiH B: GeH C: SiF D: SiCl

    下列化合物常温下呈液态的是（）。 A: SiH B: GeH C: SiF D: SiCl

  • 2022-11-03 问题

    下列分子中偶极矩最小的是（） A: NH B: PH C: HS D: SiH

    下列分子中偶极矩最小的是（） A: NH B: PH C: HS D: SiH

  • 2022-10-26 问题

    PECVD运行工艺时，使用的气体（） A: N B: SiH C: NH D: 以上皆是

    PECVD运行工艺时，使用的气体（） A: N B: SiH C: NH D: 以上皆是

  • 2022-07-22 问题

    下列氢化物中，在室温下与水反应不产生氢气的是( ) A: LiAlH<sub>4</sub> B: CaH<sub>2</sub> C: SiH<sub>4</sub> D: NH<sub>3</sub>

    下列氢化物中，在室温下与水反应不产生氢气的是( ) A: LiAlH<sub>4</sub> B: CaH<sub>2</sub> C: SiH<sub>4</sub> D: NH<sub>3</sub>

  • 2022-07-02 问题

    下列氢化物与水反应不产生氢气的是（）。 A: LiH B: SiH C: BH D: PH

    下列氢化物与水反应不产生氢气的是（）。 A: LiH B: SiH C: BH D: PH

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