半导体硅材料制备中产生的硅烷在常温下是一种气体，其分子式为（）。 A: SiH B: SiH C: SiH D: SiH

半导体硅材料制备中产生的硅烷在常温下是一种气体，其分子式为（）。 A: SiH₂ B: SiH C: SiH₃ D: SiH₄

下列化合物存在氢键的是（） A: NH B: SiH C: O D: HS

在CO2、SiH4、BF3分子中，它们（）。 A: 都是极性分子 B: CO、SiH是非极性分子，BF是极性分子 C: 都是非极性分子 D: CO是非极性分子，SiH、BF是极性分子

下列化合物常温下呈液态的是（）。 A: SiH B: GeH C: SiF D: SiCl

下列分子中偶极矩最小的是（） A: NH B: PH C: HS D: SiH

PECVD运行工艺时，使用的气体（） A: N B: SiH C: NH D: 以上皆是

下列氢化物与水反应不产生氢气的是（）。 A: LiH B: SiH C: BH D: PH

下列物质的分子间只存在色散力的是（） A: SiH B: NH C: HS D: CHOH

在PECVD镀膜过程中，改变以下哪个参量可增加折射率（）。 A: 增加SIH B: 增加NH C: 增加N D: 增加时间