以下方法可用来制备晶体硅薄膜的有（ ）。 A: 热辅助化学气相沉积（TA-CVD） B: 液相外延(LPE) C: 近空间气相输运(CSVT) D: 和离子辅助沉积（IAD）
以下方法可用来制备晶体硅薄膜的有（ ）。 A: 热辅助化学气相沉积（TA-CVD） B: 液相外延(LPE) C: 近空间气相输运(CSVT) D: 和离子辅助沉积（IAD）
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以下方法可用来制备晶体硅薄膜的有（ ）。 A: 热辅助化学气相沉积（TA-CVD） B: 液相外延(LPE) C: 近空间气相输运(CSVT) D: 和离子辅助沉积（IAD）