刻蚀设备SCHMID的刻蚀槽使用的化学试剂是（），其功能（） A: HF/HNO去除非扩散面PN结 B: KOH；中和残留酸 C: HF；去除扩散面磷硅玻璃层 D: HCL；去除扩散面磷硅玻璃层
刻蚀设备SCHMID的刻蚀槽使用的化学试剂是（），其功能（） A: HF/HNO去除非扩散面PN结 B: KOH；中和残留酸 C: HF；去除扩散面磷硅玻璃层 D: HCL；去除扩散面磷硅玻璃层
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刻蚀设备SCHMID的刻蚀槽使用的化学试剂是（），其功能（） A: HF/HNO去除非扩散面PN结 B: KOH；中和残留酸 C: HF；去除扩散面磷硅玻璃层 D: HCL；去除扩散面磷硅玻璃层