关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-06-15 光刻工艺的特点包括：（ ） A: 光刻工艺过程复杂 B: 光刻与芯片的价格和性能密切相关 C: 复印图像和化学作用相结合的综合性技术 D: 决定特征尺寸的关键工艺 光刻工艺的特点包括：（ ）A: 光刻工艺过程复杂B: 光刻与芯片的价格和性能密切相关C: 复印图像和化学作用相结合的综合性技术D: 决定特征尺寸的关键工艺 答案： 查看 举一反三 中国大学MOOC: 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和正性光刻，负性光刻中采用的光刻胶是（ ）。 芯片制造过程中最复杂、最关键的工艺步骤是？ A: 淀积 B: 光刻 C: 氧化 D: 化学机械抛光 光刻工艺包括哪些工艺？ 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和正性光刻，负性光刻中采用的光刻胶是（ ）。 A: 正性光刻胶 B: 正性或负性光刻胶 C: 负性光刻胶 D: 电子束光刻胶 光刻工艺中使用的对准和曝光设备是是现代光刻系统的最主要的组成系统，光刻工艺中最主要的工艺控制项是（）和（）。
