草图使用拉伸特征形成,需要设置的偏置选项是()。
A: 两侧
B: 单侧
C: 向内单侧偏置
D: 不使用偏置
A: 两侧
B: 单侧
C: 向内单侧偏置
D: 不使用偏置
举一反三
- NX建模中的特征操作的倒角功能提供了3种倒角方式：对称偏置、非对称偏置和（）。 A: 多偏置 B: 单偏置 C: 偏置角度 D: 镜像偏置
- 使用两侧方式创建特征时，拉伸深度由盲孔定义为100，则（ ） A: 特征朝两侧各拉伸100，总深度200； B: 特征朝两侧各拉伸50，总深度100； C: 特征朝单侧拉伸100，总深度100； D: 特征朝单侧拉伸50，总深度50；
- 回转特征操作时，“偏置”功能允许用户添加偏置到回转特征，有_____偏置2个选项，系统默认为“无”偏置
- 晶体管处于饱和状态时的特征有:发射结处于( ),集电结处于( )。 A: 反向偏置,正向偏置 B: 正向偏置,正向偏置 C: 正向偏置,反向偏置 D: 反向偏置,反向偏置
- 如何使用单侧检验与双侧检验,下列哪一项为最佳选项？（）