在有杂质存在下沉淀被测物,以下现象不属于共沉淀的是:
A: 陈化过程中杂质沉淀慢慢析出
B: 杂质被机械吸留
C: 杂质离子占据构晶离子晶格
D: 杂质离子被吸附在沉淀表面
A: 陈化过程中杂质沉淀慢慢析出
B: 杂质被机械吸留
C: 杂质离子占据构晶离子晶格
D: 杂质离子被吸附在沉淀表面
举一反三
- 用洗涤方法不可除去的沉淀杂质有(<br/>) A: 混晶共沉淀杂质 B: 包藏共沉淀杂质 C: 吸附共沉淀杂质 D: 后沉淀杂质 E: 表面吸附的离子
- 如果共沉淀的杂质离子与沉淀的构晶离子半径相近，电荷相同，则易形成（） A: 表面吸附 B: 混晶 C: 机械吸留 D: 后沉淀
- 在沉淀过程中，为了除去易吸附的杂质离子，应采取的方法有（）。 A: 将易被吸附的杂质离子分离掉 B: 改变杂质离子的存在形式 C: 在较浓溶液中进行沉淀 D: 洗涤沉淀
- 在沉淀形成过程中，与待测离子半径相近的杂质离子常与待测离子一道与构晶离子形成 A: 吸附共沉淀 B: 混晶共沉淀 C: 包藏共沉淀 D: 后沉淀
- 用洗涤方法可除去的沉淀杂质是( )。 A: 混晶共沉淀杂质 B: 包藏共沉淀杂质 C: 吸附共沉淀杂质 D: 后沉淀杂质