X射线光刻、电子束光刻和极紫外光刻技术均是通过减小光源波长来提高分辨率的先进光刻技术。
A: 正确
B: 错误
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举一反三
- 中国大学MOOC: X射线光刻、电子束光刻和极紫外光刻技术均是通过减小光源波长来提高分辨率的先进光刻技术。
- 常见的几种先进光刻技术有:极紫外线(EUV)光刻技术、电子束光刻、X射线光刻、浸入式光刻技术、纳米压印技术。( )
- 在传统光刻机的光学镜头与晶圆之间的介质可用水替代空气,以缩短曝光光源波长和增大镜头的数值孔径,从而提高分辨率,这种光刻技术是: A: 极紫外光光刻 B: 电子束光刻 C: 离子束光刻 D: 浸润式光刻
- 根据曝光时所用的光源不同，光刻可分为光学光刻法，电子束光刻法，离子束光刻法和X射线光刻法。
- 以下各种光刻技术中，不属于非光学曝光的是 A: 电子束光刻 B: 离子束光刻 C: X射线光刻 D: 浸润式光刻