关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-07-01 试说明双阱CMOS工艺中用到的主要光刻掩膜版及其作用。 试说明双阱CMOS工艺中用到的主要光刻掩膜版及其作用。 答案： 查看 举一反三 正性光刻工艺中，得到的图形与掩膜版上相反 光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（） 以下各项不属于光刻工艺三要素是: A: 光刻胶 B: 显影液 C: 曝光机 D: 掩膜版 在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。 集成电路制造与集成电路设计相关纽带是光刻掩膜版。
