中国大学MOOC: 哪个是表征光刻精度的性能指标，它不仅与光刻胶本身有关，还与光刻工艺条件和操作技术等因素有关（ ）
举一反三
- 哪个是表征光刻精度的性能指标，它不仅与光刻胶本身有关，还与光刻工艺条件和操作技术等因素有关（ ） A: 灵敏度 B: 分辨率 C: 粘附性 D: 抗蚀比
- 中国大学MOOC: 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和正性光刻，负性光刻中采用的光刻胶是（ ）。
- 中国大学MOOC: 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（ ），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（ ），后者是（ ）。
- 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和正性光刻，负性光刻中采用的光刻胶是（ ）。 A: 正性光刻胶 B: 正性或负性光刻胶 C: 负性光刻胶 D: 电子束光刻胶
- 光刻工艺的特点包括：（ ） A: 光刻工艺过程复杂 B: 光刻与芯片的价格和性能密切相关 C: 复印图像和化学作用相结合的综合性技术 D: 决定特征尺寸的关键工艺