关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-07-01 典型的PN结隔离的双极型集成电路工艺需要六次光刻,分别是:______ 、______ 、______ 、______ 、______ 、______ 典型的PN结隔离的双极型集成电路工艺需要六次光刻,分别是:______ 、______ 、______ 、______ 、______ 、______ 答案： 查看 举一反三 PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻，每次光刻目的是什么？ 目前我们所学的双极型集成电路和单极型集成电路的典型电路分别是电路和电路 集成电路制造工艺包括（ ）。 A: 双极型集成电路工艺 B: CMOS集成电路工艺 扩散工艺在现在集成电路工艺中仍然是是一项重要的集成电路工艺，现在主要被用来制作（）。 A: 埋层 B: 外延 C: PN结 D: 扩散电阻 E: 隔离区 光刻工艺在集成电路生产中得到广泛应用，它有三要素，分别是（）、（）、和（）。
