关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-07-01 光刻工艺在集成电路生产中得到广泛应用，它有三要素，分别是（）、（）、和（）。 光刻工艺在集成电路生产中得到广泛应用，它有三要素，分别是（）、（）、和（）。 答案： 查看 举一反三 双极集成电路工艺中的七次光刻和四次扩散分别指什么？ FET制造工艺简单、寿命长、功耗低，在集成电路中应用广泛。 光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。 光刻工艺所需要的三要素为 光刻是集成电路制造过程中总成本最高的工艺。（ ）
