关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 离子注入之后为修复晶格损伤和激活杂质,必须进行退火 离子注入之后为修复晶格损伤和激活杂质,必须进行退火 答案： 查看 举一反三 离子注入后需要进行退火,退火的目的是激活杂质和 A: 修复晶格损伤 B: 减少表面沾污 C: 抑制沟道效应 D: 降低饱和压降 离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能使硅片中的损伤部分或绝大部分得到消除，掺入的杂质也能得到一定比例的电激活。 离子注入后为什么要进行退火？ 离子注入后为什么要进行热退火 离子注入后，硅片晶格结构遭到破坏，因此需要通过退火进行修复。 A: 正确 B: 错误
