PVD真空镀，它是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子移到基材表面上的过程。（ ）
举一反三
- PVD真空镀，它是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子移到基材表面上的过程。 A: 对 B: 错
- 在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离子化为离子，直接沉积到基体表面上的方法叫做_______。
- 中国大学MOOC: CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。
- CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。 A: 正确 B: 错误
- 用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。 A: 蒸镀 B: 离子注入 C: 溅射 D: 沉积