关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 PVD真空镀，它是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子移到基材表面上的过程。 A: 对 B: 错 PVD真空镀，它是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子移到基材表面上的过程。A: 对B: 错 答案： 查看 举一反三 PVD真空镀，它是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子移到基材表面上的过程。（ ） 在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离子化为离子，直接沉积到基体表面上的方法叫做_______。 CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。 A: 正确 B: 错误 中国大学MOOC: CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。 用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。 A: 蒸镀 B: 离子注入 C: 溅射 D: 沉积
