曝光后，光刻胶的溶解性由不溶变成可溶，通过显影可以将其曝光部分去除，这种胶称为
A: 正胶
B: 负胶
C: 光致抗蚀剂
D: 光阻
A: 正胶
B: 负胶
C: 光致抗蚀剂
D: 光阻
A
举一反三
内容
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显影就是溶解掉正胶工艺的光刻胶，或负胶工艺的光刻胶。该工艺中需要严格控制和。 A: 被曝光 B: 未曝光 C: 显影液温度 D: 显影时间
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如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。
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有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。 A: 负胶受显影液的影响比较小 B: 正胶受显影液的影响比较小 C: 正胶的曝光区将会膨胀变形 D: 使用负胶可以得到更高的分辨率 E: 负胶的曝光区将会膨胀变形
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光刻胶的三种主要成分是：（）。正胶的感光剂是（），曝光使其（），正胶的曝光区在显影后（）；曝光使负胶的感光剂（），使曝光区在显影后（）。
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有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。 A: A负胶受显影液的影响比较小 B: B正胶受显影液的影响比较小 C: C正胶的曝光区将会膨胀变形 D: D使用负胶可以得到更高的分辨率 E: E负胶的曝光区将会膨胀变形