化学机械抛光的平整度是指CMP抛光去除台阶的高度与抛光之前台阶的高度之比，它描述了硅片表面的起伏变化情况。
A: 正确
B: 错误
A: 正确
B: 错误
举一反三
- 中国大学MOOC: 化学机械抛光的平整度是指CMP抛光去除台阶的高度与抛光之前台阶的高度之比，它描述了硅片表面的起伏变化情况。
- 化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高，抛光速率会减小，但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。 A: 正确 B: 错误
- 化学机械抛光CMP工艺是最先进最广泛应用的抛光技术，抛光技术非常成熟，不会产生任何缺陷。 A: 正确 B: 错误
- 利用超声振动的能量，通过机械装置对型腔表面进行抛光加工的工艺方法是（）。 A: 手工抛光 B: 机械抛光 C: 超声波抛光 D: 挤压抛光
- 化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高，抛光速率会减小，但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。