刻蚀均匀性是衡量刻蚀工艺在整个硅片上或整个一批硅片间,或批与批的硅片间刻蚀速率均匀性。
对
举一反三
内容
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扩散后硅片刻蚀后方块电阻会上升。
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不正确的刻蚀将导致硅片报废，给硅片制造公司带来损失。 A: 正确 B: 错误
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中国大学MOOC: 刻蚀异常的硅片，处理方法是（ ）
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在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
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刻蚀异常的硅片，处理方法是（ ） A: 重新刻蚀 B: 返回扩散 C: 返回制绒 D: 报废