光刻工艺流程为：底膜处理→前烘→涂胶→曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶
A: 正确
B: 错误
A: 正确
B: 错误
举一反三
- 光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作的?() A: 打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 B: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀 C: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 D: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶
- 光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作？ A: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 B: 打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 C: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶 D: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀
- 中国大学MOOC: 光刻工艺流程为：底膜处理→前烘→涂胶→曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶
- 光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。 A: 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶 B: 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶 C: 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶 D: 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
- 光刻工艺流程：打底膜→ →前烘 →曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。